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真空腔体组件

  • 所属分类:真空半导体

  • 点击次数:
  • 发布日期:2021/03/03
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详细介绍

真空腔体常用的清洗方法

1、放电清洗

放电清洗一般用于高真空、超高真空腔体清洗中.放电清洗的效果取决于电机材料、几何形状及其与表面的关系.利用电子轰击气体造成解吸以及某些碳氢化合物的去除.

2、氮气清洗

氮气清洗主要是利用了氮气在材料表面的吸附热小、吸留时间短,容易被抽走的特性,用氮气冲洗被污染的真空系统,同时挤占水气等其他气体分子的粘附空间,缩短真空系统的抽气时间.


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